电解和水解什么区别
电解，条件是通电，阴极的电子，阳极失电子，从而发生氧化还原反应水解，是进入水中的物质分解，而后与水电里出的氢离子和氢氧根离子结合。
水解是在水做溶剂下发生分解反应。
水解是一种化工单元过程，是利用水将物质分解形成新的物质的过程。盐电离出的离子结合了水电离出的H+和OH-生成弱电解质分子的反应。物质与水发生的导致物质发生分解的反应兄逗（不一定是复分解反应）也可以说是物质是否与水中的氢离子或者是氢氧根离子发生反应 水解是一种化工单元过程，是利用水将物质分解形成新的物质的过程。通常是指盐类的水解平衡。
盐类的水解就是指盐羡羡中的弱碱阳离子或者酸根离子与水电离产生的氢离子或者氢氧根离子结合，生成弱电解质的过程。
水解反应兄尘拍就是盐在溶液中和水作用而改变溶液酸度的反应需要在一定温度条件下进行。
---------------------------------------------------------------------------------- 水解分为可逆反应和不可逆反应水解斗孙和电离是两种不同的概念： 1）可逆反应是改变阴阳离子的状态、有机物如脂类（例如皂化反应），硅化镁）很多，它改变了溶液中氢离子及氢氧根离子浓度及铵根离子状态（一部分铵根离子转变成了一水合氨空销则） 2）不可逆水解反应类型较多，比如双水解（例如碳酸氢钠与明矾）。水解是化合物在水中与氢离子或者氢氧根离子作用产生新的物质或改变溶液中一些斗棚离子浓度/状态，离解出带电荷的阴阳离子: 电离是指电解质在溶液或者熔融状态下，比如氯化铵水解是可逆的、醇盐类（例如乙醇钠水解）、其它化合物（例如氮化镁
水解是利用水将物质分解形成新的物质的过程。通常是指盐类的水解平衡。
电解是在电解槽中，直流电通过电极和电解质，在两者接型乎触的界歼租轮面上发生电化学反应，以制备所需产品氏信的过程。
电离： 电解质在水溶液中或熔融状态下离解成自由移动阴阳离子的过程。
水解： 水解是一种化工单元过程，是利用水将物质分解局哪形成新的物质的过程。通常是指盐类的水解
平衡。
电离是物理变化，水解是化桐销码学变斗绝化。
四氯化硅氢还原法制备多晶硅方法
我国目前制备多晶硅主要采用三氯氢硅氢还原法、硅烷热解法和四氯化硅氢还原法．由于三氯氢硅还原法具有一定优点，被广泛应用．其简化的工艺流程如图所示：
反应①：Si（粗）+3HCl（g） SiHCl3（l）+H2（g）
反应②：SiHCl3+H2 Si（纯）+3HCl
（1）制备三氯氢硅的反应为：Si（s）+3HCl（g）TSiHCl3（g）+H2（g）；△H=-210kJ•mol-1．伴随的副反应有：Si（s）+4HCl（g）TSiCl4（g）+2H2（g）；△H=-241kJ•mol-1．SiCl4在一定条件下与H2反应可转化为SiHCl3，反应的热化学方程式为：SiCl4（g）+H2（g）TSiHCl3（g）+HCl（g）；△H=______．
（2）假设在每一轮次的投料生产中，硅元素没有损失，反应①HCl中的利用率为75%，反应②中和H2的利用率为80%．则在下一轮次的生产中，需补充投入HCl和H2的体积比是______．
（3）由于SiH4具有易提纯的特点，因此硅烷热分解法是制备高纯硅很有发展潜力的方法．工业上广泛采用的合成硅烷方法是让硅化镁和固体氯化铵在液氨介质中反应得到硅烷，化学方程式是______；
整个制备过程必须严格控制无水，否则反应将不能生成硅烷，而是生成硅酸和氢气等，其化学方程式为______；
整个系统还必须与氧隔绝，其原因是______．
（4）若将硅棒与铁棒用导线相连浸在氢氧化钠溶液中构成原电池，则负极的电极反应式为：______
（5）硅能用于合成硅橡胶，右图是硅橡胶中的一种，其主要优点是玻璃化温度低，耐辐射性能好，则该硅橡胶的化学式为______．
反馈
解析
解答
解：（1）根据盖斯定律，反应SiCl4（g）+H2（g）TSiHCl3（g）+HCl（g）可以看成是Si（s）+3HCl（g）TSiHCl3（g）+H2（g）和反应Si（s）+4HCl（g）TSiCl4（g）+2H2（g）的差，所以△HT-210kJ•mol-1-（-241kJ•mol-1）=+31 kJ•mol-1，故答案为：+31 kJ•mol-1；
（2）根据题意，反应①HCl中的利用率为75%，反应②中和H2的利用率为80%，即①中有75%的HCl和Si反应，而有25%的HCl和杂质反应了，②中有80%的H2和SiHCl3反瞎纤唤应，而有20%的H2和杂质（如氧气）反应了，根据Si（粗）+3HCl（g）TSiHCl3（l）+H2（g），可知4体积的HCl中有3体积和Si反应生成了1体积的H2，而SiHCl3+H2TSi（纯）+3HCl中需要的H2就是1体积，要投放H2为=1.25体积，所以要补充0.25体积的H2，生成了3体积的HCl，为了保证有4体积的HCl，就要补充1体积的HCl，所以结果是V（ HCl）：V（H2）=（4-3）：（1.25-1）=4：1，故案为：4：1；
（3）硅化镁和固体氯化铵在液氨介质中反应得到硅烷，根据原子守恒，则Mg2Si+4NH4ClTSiH4↑+2MgCl2+4NH3↑磨凯，整个系统还必须与氧隔绝，否竖改则容易发生爆炸，硅化镁和固体氯化铵在水中反应得到硅酸和氢气等，根据原子守恒，则Mg2Si+4NH4Cl+3H2OT2MgCl2+H2SiO3+4NH3↑+4H2↑，
故答案为：Mg2Si+4NH4ClTSiH4↑+2MgCl2+4NH3↑；Mg2Si+4NH4Cl+3H2OT2MgCl2+H2SiO3+4NH3↑+4H2↑；由于硅烷在空气中易燃，浓度高时容易发生爆炸；
（4）自发的氧化还原反应是硅和氢氧化钠的反应，硅在反应中失去电子作负极，故答案为：Si+6OH--4e-=SiO32-+3H2O；
（5）根据物质的原子构成知分子式为：（C24H18SiO2）n，故答案为：（C24H18SiO2）n．
分析
解：（1）根据盖斯定律，反应SiCl4（g）+H2（g）TSiHCl3（g）+HCl（g）可以看成是Si（s）+3HCl（g）TSiHCl3（g）+H2（g）和反应Si（s）+4HCl（g）TSiCl4（g）+2H2（g）的差，所以△HT-210kJ•mol-1-（-241kJ•mol-1）=+31 kJ•mol-1，故答案为：+31 kJ•mol-1；
（2）根据题意，反应①HCl中的利用率为75%，反应②中和H2的利用率为80%，即①中有75%的HCl和Si反应，而有25%的HCl和杂质反应了，②中有80%的H2和SiHCl3反应，而有20%的H2和杂质（如氧气）反应了，根据Si（粗）+3HCl（g）TSiHCl3（l）+H2（g），可知4体积的HCl中有3体积和Si反应生成了1体积的H2，而SiHCl3+H2TSi（纯）+3HCl中需要的H2就是1体积，要投放H2为=1.25体积，所以要补充0.25体积的H2，生成了3体积的HCl，为了保证有4体积的HCl，就要补充1体积的HCl，所以结果是V（ HCl）：V（H2）=（4-3）：（1.25-1）=4：1，故案为：4：1；
（3）硅化镁和固体氯化铵在液氨介质中反应得到硅烷，根据原子守恒，则Mg2Si+4NH4ClTSiH4↑+2MgCl2+4NH3↑，整个系统还必须与氧隔绝，否则容易发生爆炸，硅化镁和固体氯化铵在水中反应得到硅酸和氢气等，根据原子守恒，则Mg2Si+4NH4Cl+3H2OT2MgCl2+H2SiO3+4NH3↑+4H2↑，
故答案为：Mg2Si+4NH4ClTSiH4↑+2MgCl2+4NH3↑；Mg2Si+4NH4Cl+3H2OT2MgCl2+H2SiO3+4NH3↑+4H2↑；由于硅烷在空气中易燃，浓度高时容易发生爆炸；
（4）自发的氧化还原反应是硅和氢氧化钠的反应，硅在反应中失去电子作负极，故答案为：Si+6OH--4e-=SiO32-+3H2O；
（5）根据物质的原子构成知分子式为：（C24H18SiO2）n，故答案为：（C24H18SiO2）n．
、四氯化硅氢还信缓原档坦游法（贝尔法），贝尔实验室于 1930-1955 年发明 SiCl 4 + H 2 ==== Si +4 HCl 1100-1200℃，在钼丝上沉积，然后将多晶硅剥下来拉制单晶硅，或在石英管内反应制得针状硅行销收集后拉制单晶硅，制得 P 型电阻率 100-3000Ω .cm 的单晶硅。